^{Так выглядит EUV-оборудование от ASML}

Совсем недавно мы опубликовали статью «У электронной промышленности Китая проблемы с архитектурой ARM и NAND-чипами. Какие у Поднебесной шансы». В ней мы рассказывали о том, что сейчас торговая война США и Китая усугубилась, вследствие чего развитие электронной промышленности в Поднебесной стало более сложной задачей.

Но, все же развитие продолжается. Причем это заметно даже по компании, которая сильнее всех пострадала от санкций США — Huawei. Представители компании недавно подали патентную заявку. В ней описывается современный литографический сканер со сверхжёстким ультрафиолетовым излучением (EUV). Если китайцам удастся реализовать то, что описано в заявке, многие проблемы можно будет считать решенными. Об этом сегодня и поговорим.
Читать дальше →

https://habr.com/ru/post/707522/?utm_source=habrahabr&utm_medium=rss&utm_campaign=707522