Часто при создании изображений в Photoshop хотелось бы одному слою придать форму, которая находится в другом слое. Например, как показано на образце ниже, фото приняло форму округленного прямоугольника.



Для достижения этого эффекта можно было бы нарисовать форму и, используя прозрачность формы, удалить лишние пиксели фото. Таким образом, мы имели бы желаемый результат - фото в особенной форме, но что если бы нам захотелось изменить форму? Или изменить вид заполнения формы рисунком? То пришлось бы повторить весь процесс снова.

Идеальным способом для достижения этого эффекта является не разрушающее редактирование изображения, а использование обтравочной маски (clipping mask). Ос нова обтравочной маски – это два слоя:

1) базовый слой, который предусматривает форму (например, округленный прямоугольник);

2) второй, «обтравочный» слой, который предусматривает «содержимое» (фото).

Эта технология очень полезна и я пользуюсь ею каждый день при разработке графики web-сайтов. Это действительно легко для работы и может изменить Ваш подход к разработке графики в Photoshop.

Создание обтравочной маски

Для создания обтравочной маски, во-первых, конечно нужно сделать базовый слой с помощью палитры «Слои». Он должен находиться непосредственно под слоем, часть пикселей которого бы Вы хотели скрыть. Итак, нажмите и удерживайте клавишу Alt (Windows) или Option (Mac OS), затем наведите на линию между двумя слоями на палитре «Слои». При этом курсор преобразуется в стрелочку, указывающую влево, и два пересекающихся круга, похожих на маленькую диаграмму Венна.

Кликните мышь. Сразу же Вы увидите фотослой «обтравочный» над базовым слоем. Можно отменить это, нажав на стрелочку, указывающую вниз, возле прямоугольника на обтравочном слое.



Можно добавить несколько слоев к обтравочной маске, повторяя процедуру. Просто Alt / Option + нажатие на линию между слоями, если Вы хотели бы пополнить маску. А можно с помощью Shift выделить несколько слоев и добавить их к маске одним нажатием Alt / Option и линии между самым нижним из выбранных слоев и базовым слоем. На кадре ниже показано два фотослоя в маске.



Чтобы «освободить» объекты маски, просто нужно нажать Alt / Option и снова на разделительную линию между слоями.

Преимущества использования обтравочной маски

Обтравочную маску выгоднее использовать, чем разрушающее редактирование изображения по двум причинам.

Во-первых, сохраняется весь рисунок слоя, не удаляются пиксели за формой маски, а также слоя в маске можно свободно редактировать. Это значит, что можно подбирать обтравочные слоя, редактировать их и передвигать их в маске с помощью инструмента «Перемещение», выбирая наиболее подходящий фрагмент фона, пока не получится желаемый результат. По сравнению с методом обрезания изображения, это значительно сокращает время. Попробуйте, это очень легко.

Во-вторых, даже в самом процессе можно придавать новую форму базовому слою и увидеть изменения отторжений в обтравочной маске. Например, можно было бы воспользоваться функцией «Редактировать обтравочный контур» для изменения формы. Во время создания новой формы маски мы имели бы возможность посмотреть на результат.

Какие виды слоев можно использовать в качестве базового слоя для обтравочной маски?

Для создания базового слоя может быть используемо достаточно большое количество различных видов слоев, включая разнообразные типы векторных и обычных растровых слоев. Давайте посмотрим на несколько примеров из них в работе.



Здесь тип слоя – базовый слой, который показывает фото через имеющуюся форму текста. Хорошей новостью будет то, что и тип слоя можно изменять с помощью инструмента «Тип» даже во время формирования маски. Это дает Вам возможность подбирать типы и добиваться сложных эффектов, угодных Вашему сердцу!

Один пример векторного слоя Вы уже видели, ниже показан еще один более сложный метод формирования маски.



Имеется также возможность использовать прозрачность любого растрового слоя для создания обтравочной маски. На примере ниже, я использовал слой, содержащий широкий мазок мягкой кистью, в качестве базового слоя.



Полупрозрачность и режимы смешивания

Можно настроить полупрозрачность базового слоя маски, чтобы затемнить все слоя выше него. В других словах, обтравочные слоя не только принимают форму базового слоя, но и настройки полупрозрачности. Это также относится и к режимам смешивания базового слоя. К примеру, если Вы применяете режим смешивания «Мягкий свет» для базового слоя, то этот эффект распространяется и на обтравочные слоя также.

Можно настроить полупрозрачность и режимы смешивания и отдельно для всех обтравочных слоев, что является хорошим способом создания сочных детальных изображений. На образце ниже, базовый слой – розовое сердце. Слой «мох» обеспечивает текстуру и установлен на уровне 28% непрозрачности. Слой «техника» (центр спутниковой антенны) настроен на режиме смешивания «Жесткий свет», позволяющему приобретать структуру слоя «мох».



Стили слоев Веселым трюком было бы применение стилей слоев к базовому слою, что позволяет прибавлять все виды эффектов к обтравочной маске. Для достижения этого кликните два раза на базовом слое маски, чтобы открыть диалоговое окно «Стили слоев» и добавляйте эффект, который подходит на Ваш взгляд. Ниже Вы можете увидеть несколько примеров.



Заметьте, можно применять стили слоев и к обтравочным слоям.
источник